日本sanplatec電鍍槽內安裝型氟樹脂加熱器

日本sanplatec電鍍槽內安裝型氟樹脂加熱器

• 專為槽內安裝設計，耐化學腐蝕性能優(yōu)異，適用于電鍍液、半導體生產線等場景。

• 接液部位全部為Teflon材質，可耐強酸、強堿至超純水等各種液體，無雜質溶出。
• 密封部位全部采用焊接結構，無O型圈或墊片，長期運行無老化風險。

• 半導體高純藥液、純水儲槽、蝕刻槽、清洗槽
• 電鍍處理槽
• 化學類研究、實驗裝置

• 專為槽內安裝設計，耐化學腐蝕性能優(yōu)異，適用于電鍍液、半導體生產線等場景。

• 接液部位全部為Teflon材質，可耐強酸、強堿至超純水等各種液體，無雜質溶出。
• 密封部位全部采用焊接結構，無O型圈或墊片，長期運行無老化風險。

• 半導體高純藥液、純水儲槽、蝕刻槽、清洗槽
• 電鍍處理槽
• 化學類研究、實驗裝置

• 專為槽內安裝設計，耐化學腐蝕性能優(yōu)異，適用于電鍍液、半導體生產線等場景。

• 接液部位全部為Teflon材質，可耐強酸、強堿至超純水等各種液體，無雜質溶出。
• 密封部位全部采用焊接結構，無O型圈或墊片，長期運行無老化風險。

• 半導體高純藥液、純水儲槽、蝕刻槽、清洗槽
• 電鍍處理槽
• 化學類研究、實驗裝置

• 專為槽內安裝設計，耐化學腐蝕性能優(yōu)異，適用于電鍍液、半導體生產線等場景。

• 接液部位全部為Teflon材質，可耐強酸、強堿至超純水等各種液體，無雜質溶出。
• 密封部位全部采用焊接結構，無O型圈或墊片，長期運行無老化風險。

• 半導體高純藥液、純水儲槽、蝕刻槽、清洗槽
• 電鍍處理槽
• 化學類研究、實驗裝置