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產(chǎn)品展示/ Product display
日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置簡易型用于 硅片及化合物半導體晶圓 表面/側(cè)面 納米級金屬污染物 的 半自動微量回收
產(chǎn)品型號：SC-9200廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2025-12-31訪 問 量：13
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日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置
日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置
SC-9200 簡易型微量金屬污染物回收裝置
| 功能 | 說明 |
|---|---|
| 自動保持具清洗 | 回收液槽與吸頭每次循環(huán)自動沖洗，消除交叉污染 |
| 上吸式液回收 | 通過負壓將取樣液 精確吸回，殘留量 < 1 µL |
| 多種取樣圖形 | 標配：環(huán)狀、扇形、固定半徑、弧段；可選：側(cè)面（倒角）、矩形、弓形 |
| 全自動流程 | ①裝夾 → ②供液 → ③取樣 → ④回收 → ⑤清洗，一鍵完成 |
| 高潔凈設計 | 整機可置于 潔凈臺（Clean Draft） 內(nèi)使用；與晶圓接觸部分 PFA/PTFE 材質(zhì) |
| 項目 | 規(guī)格 |
|---|---|
| 適用晶圓 | 2–8 inch（可兼容缺口/平邊） |
| 取樣面積 | 最小 Φ 1 mm 環(huán)帶， 全表面 |
| 回收液體積 | 50–500 µL（可調(diào)，閉環(huán)體積校準） |
| 取樣時間 | 典型 30 s/片（含清洗） |
| 電源 | AC 100–240 V 50/60 Hz 200 W |
| 公用介質(zhì) | 純水（DIW）、氮氣（N?）、潔凈空氣（CDA） |
| 外形/重量 | 690 × 550 × 790 mm / 55 kg |
| 控制方式 | 外接 PC（Windows），圖形界面；可導出 CSV/Excel |
SC-3100通過連接 PC 創(chuàng)建多種取樣模式，可從硅片表面及側(cè)面（倒角部）回收微量金屬污染。幾乎不需要外部資源，也不占空間，設備導入門檻低。機械作業(yè)，無需操作者熟練，任何人都能輕松采樣。采樣藥液供給與保持具移動由裝置自動完成，與 SC-2000 相比，可進一步減少人員污染。SC-8150具備從親水狀態(tài)晶圓回收污染的功能，除硅片外，也可對表面粗糙的體蝕刻晶圓等材質(zhì)進行采樣。對晶圓狀態(tài)和藥液種類的限制放寬，除重金屬外，還可回收其他離子。當然，傳統(tǒng)的疏水采樣同樣支持。SC-9100具備從親水狀態(tài)晶圓回收污染的功能，除硅片外，也可對表面粗糙的體蝕刻晶圓等材質(zhì)進行采樣。對晶圓狀態(tài)和藥液種類的限制放寬，除重金屬外，還可回收其他離子。當然，傳統(tǒng)的疏水采樣同樣支持。采樣藥液供給與保持具移動由裝置自動完成，與 SC-8150 相比，可進一步減少人員污染。
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